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首个极紫外光刻三星7nm工艺提前完成 抢骁龙855

2018-4-8 21:08| 发布者: dealabc_admin| 查看: 865| 评论: 0

摘要: 首个极紫外光刻三星7nm工艺提前完成 抢骁龙855 【美国华人网综合报道】据报道,三星已完成7nm新工艺的研发,而且比预期进度提早了半年,这为三星与台积电(台湾积体电 ...
首个极紫外光刻三星7nm工艺提前完成 抢骁龙855
美国华人网综合报道】据报道,三星已完成7nm新工艺的研发,而且比预期进度提早了半年,这为三星与台积电(台湾积体电路制造股份有限公司,简称台积电、TSMC)争抢高通骁龙855代工订单奠定了基础。同时,7nm制程工艺的成功,也意味着全球首例极紫外光刻(EUV)技术的成功。同时,也使三星在与台积电竞争中占得先机
据了解,7nm工艺可以让产品面积缩小40%,将芯片性能提高10%,或是在性能相同时将能耗提高35%自从16/14nm节点开始,三星和台积电的工艺之争愈发激烈,都不断砸下巨资加速推进新工艺。眼下,双方的10nm工艺都已经成功商用,其中台积电拿下了华为麒麟970、苹果A11,而三星则搞定了高通骁龙845。
在7nm工艺上,台积电因沿用成熟技术进展顺利,今年第一季度已投产,将代工华为麒麟980,还有消息称一并收获了苹果A12、高通骁龙855。
三星7nm工艺.jpg
三星因在7nm上采用了技术更先进、但难度极高的EUV极紫外光刻完成开发,原本预计在今年下半年才能完成,没想到现在提前了足足半年。目前,高通已将新的芯片样品送交三星进行测试不过不清楚是否为骁龙855。而在此之前,三星已拿到高通5G芯片的订单,只要进展顺利再获得骁龙855也是水到渠成。
消息人士称,三星7nm研发团队已完成任务,先已全面转向5nm工艺的研发,而两种工艺共享设计数据库(DB),下一步的难度也会大大降低。
而台积电的计划是在7nm升级版上试用EUV极紫外光刻,时间预计在明年,而全面应用EUV得到2020年的5nm。
Intel方面的10nm也还没有出来,已经迟好几年,7nm再快也要三四年之后,EUV应用则一直没有时间表。


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